High-NA-EUV: ASML plant größere Masken, Intel knackt die Millionen-Wafer-Marke

ASML entwickelt größere Masken für die High-NA-EUV-Lithografie, um die Effizienz zu steigern. Intel setzt bereits auf die nächste Scanner-Generation von ASML in der Serienfertigung und hat die Millionen-Wafer-Marke überschritten. Dies signalisiert Fortschritte in der Halbleiterproduktion, die für Technologieunternehmen und deren Lieferketten von Bedeutung sind.